TSV1200-S 多功能磁控濺射鍍膜機(TSV1200-S)
- 公司名稱 深圳市萬德泉科技有限公司-J
- 品牌
- 型號 TSV1200-S
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2019/5/29 14:25:20
- 訪問次數(shù) 424
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產(chǎn)地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),文體,交通 |
多功能磁控濺射鍍膜機(TSV1200-S)主要特點:
1,側(cè)面開門結(jié)構(gòu),便于裝片和換靶
2,*設(shè)計預(yù)濺射擋板,工藝控制簡便,節(jié)省時間
3,*設(shè)計的充氣和抽氣系統(tǒng),有效鍍膜區(qū)寬
4,專業(yè)脈沖偏壓非平衡對靶中頻磁控濺射技術(shù),鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定
5,采用PLC工控機控制,可實現(xiàn)設(shè)備和工藝手動和自動控制,多重泵閥水電互鎖互保護
6,安裝采用全程四極質(zhì)譜監(jiān)控和氦質(zhì)譜檢漏,真空密封性好,設(shè)備工藝穩(wěn)定可靠
7,轉(zhuǎn)動采用磁流體引入,*運轉(zhuǎn)密封可靠
8,綜合效率高,裝片量大。50X70mm工件,**一次可裝800片
9,所有零部件采用國內(nèi)廠家,電器元件采用進口或合資企業(yè)產(chǎn)品,設(shè)備*運行可靠穩(wěn)定。
多功能磁控濺射鍍膜機(TSV1200-S) 主要技術(shù)參數(shù)和配置:
?。ㄒ唬?,真空系統(tǒng)技術(shù)指標(biāo)
1,極限真空:優(yōu)于2×10-3Pa;
2,抽速:大氣到5×10-3Pa≤30mm(空載,冷態(tài),潔凈);
3,壓升率:小于0.5Pa/hr。
?。ǘ婵帐液驼婵障到y(tǒng)配置
1,鍍膜室尺寸:1210mm(直徑)×1200mm(高);
2,采用側(cè)面對開方式,便于工件裝卸;
3,外壁通冷卻水,冷卻水管采用半圓管焊接方式,焊縫美觀,平整;
4,3個觀察窗口,左右門上各一個,室體正前方一個;
5,抽氣室內(nèi)安裝一個旋轉(zhuǎn)抽氣擋板,旋轉(zhuǎn)角度范圍0~90°
6,兩臺φ400mm口徑分子泵;
7,1臺ZJP300型羅茨泵,增加氣動旁通閥;
8,2臺2X-70型機械泵,一臺為粗抽泵,一臺為分子泵維持泵;
9,φ400mm口徑高真空氣動閥2套;
?。ㄈ?,工件掛架以及驅(qū)動裝置
1,一套公,自轉(zhuǎn)工轉(zhuǎn)機構(gòu),采用下驅(qū)動方式的二維平面行星機構(gòu),自轉(zhuǎn)軸20根;
2,轉(zhuǎn)速0-8圈/分鐘可控可調(diào);
3,驅(qū)動引入采用磁流體密封;
(四),真空測量系統(tǒng)
1,采用一臺數(shù)字式復(fù)合真空計;
2,一路高真空測量,兩路低真空測量(室體一路,低真空管道一路)。
?。ㄎ澹?,磁控濺射陰極靶
1,四對磁控濺射靶(四只外裝靶,四只內(nèi)裝靶,共八只靶)
2,磁控濺射靶靶材尺寸:912mm×120mm(長×寬);