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TSV1200-S 多功能磁控濺射鍍膜機(TSV1200-S)

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
產(chǎn)品標(biāo)簽

TSV1200-S鍍膜機

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真空泵,控制器,探頭

產(chǎn)地類別 進口 價格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),文體,交通

多功能磁控濺射鍍膜機(TSV1200-S)主要特點: 
  1,側(cè)面開門結(jié)構(gòu),便于裝片和換靶 
  2,*設(shè)計預(yù)濺射擋板,工藝控制簡便,節(jié)省時間 
  3,*設(shè)計的充氣和抽氣系統(tǒng),有效鍍膜區(qū)寬 
  4,專業(yè)脈沖偏壓非平衡對靶中頻磁控濺射技術(shù),鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定 
  5,采用PLC工控機控制,可實現(xiàn)設(shè)備和工藝手動和自動控制,多重泵閥水電互鎖互保護 
  6,安裝采用全程四極質(zhì)譜監(jiān)控和氦質(zhì)譜檢漏,真空密封性好,設(shè)備工藝穩(wěn)定可靠 
  7,轉(zhuǎn)動采用磁流體引入,*運轉(zhuǎn)密封可靠 
  8,綜合效率高,裝片量大。50X70mm工件,**一次可裝800片 
  9,所有零部件采用國內(nèi)廠家,電器元件采用進口或合資企業(yè)產(chǎn)品,設(shè)備*運行可靠穩(wěn)定。 
   

多功能磁控濺射鍍膜機(TSV1200-S)  主要技術(shù)參數(shù)和配置: 
 ?。ㄒ唬?,真空系統(tǒng)技術(shù)指標(biāo) 
  1,極限真空:優(yōu)于2×10-3Pa; 
  2,抽速:大氣到5×10-3Pa≤30mm(空載,冷態(tài),潔凈); 
  3,壓升率:小于0.5Pa/hr。 
   
 ?。ǘ婵帐液驼婵障到y(tǒng)配置 
  1,鍍膜室尺寸:1210mm(直徑)×1200mm(高); 
  2,采用側(cè)面對開方式,便于工件裝卸; 
  3,外壁通冷卻水,冷卻水管采用半圓管焊接方式,焊縫美觀,平整; 
  4,3個觀察窗口,左右門上各一個,室體正前方一個; 
  5,抽氣室內(nèi)安裝一個旋轉(zhuǎn)抽氣擋板,旋轉(zhuǎn)角度范圍0~90° 
  6,兩臺φ400mm口徑分子泵; 
  7,1臺ZJP300型羅茨泵,增加氣動旁通閥; 
  8,2臺2X-70型機械泵,一臺為粗抽泵,一臺為分子泵維持泵; 
  9,φ400mm口徑高真空氣動閥2套; 
   
 ?。ㄈ?,工件掛架以及驅(qū)動裝置 
  1,一套公,自轉(zhuǎn)工轉(zhuǎn)機構(gòu),采用下驅(qū)動方式的二維平面行星機構(gòu),自轉(zhuǎn)軸20根; 
  2,轉(zhuǎn)速0-8圈/分鐘可控可調(diào); 
  3,驅(qū)動引入采用磁流體密封; 
   
  (四),真空測量系統(tǒng) 
  1,采用一臺數(shù)字式復(fù)合真空計; 
  2,一路高真空測量,兩路低真空測量(室體一路,低真空管道一路)。 
   
 ?。ㄎ澹?,磁控濺射陰極靶 
  1,四對磁控濺射靶(四只外裝靶,四只內(nèi)裝靶,共八只靶) 
  2,磁控濺射靶靶材尺寸:912mm×120mm(長×寬); 



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