CMP 拋光液研發(fā)裝置是專門用于開發(fā)和優(yōu)化 CMP 拋光液的關鍵設備。
主要組成部分：
小型反應釜：用于進行各種化學合成和調配實驗。
精密計量系統：能夠精確控制各種原材料的添加量，確保配方的準確性。
多模式攪拌系統：提供不同的攪拌速度和方式，以模擬不同的反應條件。
溫度和壓力調節(jié)系統：可實現精確的溫度和壓力控制，滿足多樣化的實驗需求。
在線監(jiān)測儀器：如粒度分析儀、pH 計、粘度計等，實時監(jiān)測拋光液的性能參數。
樣品采集和分析系統：方便隨時采集樣品進行離線的深入分析。
工作原理：
研究人員根據設定的配方，通過精密計量系統將原材料加入小型反應釜中。利用多模式攪拌系統和溫度、壓力調節(jié)系統創(chuàng)造適宜的反應環(huán)境。在反應過程中，在線監(jiān)測儀器實時反饋數據，研究人員根據這些數據調整實驗參數。需要時，通過樣品采集和分析系統獲取更詳細的信息，以不斷優(yōu)化拋光液的配方和工藝。
研究人員根據設定的配方，通過精密計量系統將原材料加入小型反應釜中。利用多模式攪拌系統和溫度、壓力調節(jié)系統創(chuàng)造適宜的反應環(huán)境。在反應過程中，在線監(jiān)測儀器實時反饋數據，研究人員根據這些數據調整實驗參數。需要時，通過樣品采集和分析系統獲取更詳細的信息，以不斷優(yōu)化拋光液的配方和工藝。
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