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納米薄膜的制備方法

針對(duì)有機(jī)半導(dǎo)體粉料和金屬粉料蒸發(fā)溫度低的特點(diǎn),設(shè)計(jì)并制作了新型低溫輻射式薄膜加熱蒸發(fā)器,通過對(duì)有機(jī)粉料的蒸發(fā)及濺射時(shí)樣片襯底的加熱實(shí)驗(yàn),取得了良好效果,通過觀測(cè)裝置,可以觀測(cè)到,薄膜監(jiān)控測(cè)厚儀未能反映出的10納米薄膜厚度。其制作成本低,加熱效率高,同時(shí)又提高了設(shè)備功效;是一種多功能輻射式加熱器,在物理教學(xué)和相關(guān)的科研生產(chǎn)中有著廣泛的應(yīng)用前景。在真空中使固體表面(基片)上沉積一層金屬、半導(dǎo)體或介質(zhì)薄膜的工藝通常稱為真空鍍膜。早在19世紀(jì),英國(guó)的Grove和德國(guó)的Plucker相繼在氣體放電實(shí)驗(yàn)的輝光放電壁上觀察到了濺射的金屬薄膜,這就是真空鍍膜的萌芽。后于1877年將金屬濺射用于鏡子的生產(chǎn);1930年左右將它用于Edison唱機(jī)錄音蠟主盤上的導(dǎo)電金屬。以后的30年,高真空蒸發(fā)鍍膜又得到了飛速發(fā)展,這時(shí)已能在實(shí)驗(yàn)室只制造單層反射膜、單層減反膜和單層分光膜,并且在1939年由德國(guó)的Schott等人鍍制出金屬的Fairy-Perot干涉濾波片,1952年又做出了高峰值、窄寬度的全介質(zhì)干涉濾波片。真空鍍膜技術(shù)歷經(jīng)一個(gè)多世紀(jì)的發(fā)展,目前已廣泛用于電子、光學(xué)、磁學(xué)、半導(dǎo)體、無線電及材料科學(xué)等領(lǐng)域,成為一種*的新技術(shù)、新手段、新方法。

液相法

(a) 溶膠-凝膠法．該方法制備納米薄膜的基本步驟如下：首先用金屬無機(jī)鹽或有機(jī)金屬化合

物制備溶膠，然后將襯底(如SiO2玻璃襯底等)浸入溶膠后以一定速度進(jìn)行提拉，結(jié)果溶膠附著在襯底上，經(jīng)一定溫加熱后即得到納米微粒的膜．膜的厚度控制可通過提拉次數(shù)來控制。

液相法

(b) 電沉積法．一般Ⅱ-Ⅵ族半導(dǎo)體薄膜可用此法制備。

氣相法

1. 高速超微粒子沉積法(氣體沉積法)．基本原理是用蒸發(fā)或?yàn)R射等方法獲得基本原理是：用蒸發(fā)或?yàn)R射等方法獲得超微粒子，用一定氣壓的惰性氣體作載流氣體，通過噴嘴，在基板上沉積成膜．
2. 直接沉積法是當(dāng)前制備納米薄膜普遍采用的方法，?基本原理：把納米粒子直接沉淀在低溫基片上．制備方法主要有三種：惰性氣體蒸發(fā)法、等離子濺射法和輝光放電等離子誘導(dǎo)化學(xué)氣相沉積法．基片的位置、氣體的壓強(qiáng)、沉淀速率和基片溫度是影響納米膜質(zhì)量的重要因素．