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中級(jí)會(huì)員 | 第11年

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  • 微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的微波PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源,...

    型號(hào): 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/8/12 15:27:18 對(duì)比
    等離子化學(xué)氣相沉積微波PECVD進(jìn)口微波PECVD
  • 全自動(dòng)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-4000(ICPA)全自動(dòng)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可達(dá)6" 基片...

    型號(hào): NPE-4000(... 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/11/13 12:02:56 對(duì)比
    進(jìn)口全自動(dòng)ICPECVDICP PECVD
  • ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-4000(ICPM)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片...

    型號(hào): NPE-4000(... 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/11/13 12:00:49 對(duì)比
    進(jìn)口ICPECVDICPPECVD
  • 全自動(dòng)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-4000(A)全自動(dòng)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋...

    型號(hào): NPE-4000(... 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/11/13 11:58:57 對(duì)比
    進(jìn)口PECVD進(jìn)口全自動(dòng)PECVD等離子化學(xué)氣相沉
  • NPE-4000(M)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-4000(M)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電...

    型號(hào): 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/11/13 11:56:36 對(duì)比
    進(jìn)口PECVD進(jìn)口等離子體PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉
  • NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電極或...

    型號(hào): 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/11/13 11:54:45 對(duì)比
    進(jìn)口PECVD進(jìn)口等離子體PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉
  • NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電極或...

    型號(hào): 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/11/13 11:52:35 對(duì)比
    進(jìn)口PECVD臺(tái)式PECVD進(jìn)口等離子體PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉

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