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NPE-4000(M)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電...
NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電極或...
NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電極或...
NSC-3500(M)磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達(dá)8“旋轉(zhuǎn)平臺,支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-...
NSC-3000(A)全自動磁控濺射系統(tǒng):臺式自動系統(tǒng),帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺,支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵...
NSC-3000(M)磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺,支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-...
NSC-1000磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺,支持到2個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-7 T...
LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng):Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離,以及濕法刻...
LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng):Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...
SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng):Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗,以及兆聲輔助的光刻膠剝離。它可以在一...
SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng):Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗,以及兆聲輔助下光刻膠剝離。它可以在一...
NDR-4000(A)全自動DRIE深反應(yīng)離子刻蝕:全自動上下載片,帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺的深硅刻蝕系統(tǒng),帶8“ ICP源。系統(tǒng)配套500L/S抽速的渦輪...
NDR-4000(M)DRIE深反應(yīng)離子刻蝕:是帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺的深硅刻蝕系統(tǒng),帶8“ ICP源。系統(tǒng)配套500L/S抽速的渦輪分子泵,可以使得工藝...
NPC-4000(M)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī)):NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶圓的光...
NPC-4000(A)全自動等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī)):NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶...
NPC-3500(A)全自動等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī)):NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶...
NPC-3500(M)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī)):NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機(jī)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶圓的光...
NPC-3000等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī)):NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機(jī)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝...
NRE-3500(A)全自動反應(yīng)離子刻蝕機(jī):自動上下栽片,PC控制的RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜,13“頂蓋式圓柱形鋁腔...
NRE-3500(M)反應(yīng)離子刻蝕機(jī):PC控制的反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體...
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