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產(chǎn)品型號(hào)ZMP-960
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地上海市
更新時(shí)間:2024-07-26 18:06:25瀏覽次數(shù):1756次
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一、結(jié)構(gòu)原理
ZMP-960晶體出現(xiàn)率分析儀工作原理是通過(guò)專(zhuān)用高分辨率CCD線性傳感器和顯微光學(xué)掃描平臺(tái),將顆粒圖像信息采集下來(lái)并傳輸?shù)接?jì)算機(jī)中,用專(zhuān)門(mén)的顆粒圖像分析軟件對(duì)顆粒圖像進(jìn)行分析。結(jié)合智能的背景分離的顆粒邊界搜索算法,將目標(biāo)顆粒與背景分離,分析出各種測(cè)量參數(shù),并通過(guò)顯示器和打印機(jī)輸出。
該儀器具有超大測(cè)量范圍及高分辨率,同時(shí)具有直觀、可視、準(zhǔn)確、操作簡(jiǎn)單、測(cè)量參數(shù)全面等特點(diǎn)。能夠同時(shí)測(cè)量顆粒粒度、形狀及表面顏色的新型顆粒分析儀器。
二、產(chǎn)品介紹
ZMP-960晶體出現(xiàn)率分析儀可以直接對(duì)透明貼劑中析出的晶體進(jìn)行掃描,按照規(guī)定掃描范圍進(jìn)行掃描一定的面積,將其中的晶體識(shí)別出來(lái)并做數(shù)量統(tǒng)計(jì)。軟件可以內(nèi)置公式得出晶體出現(xiàn)率。
三、性能指標(biāo)
1.測(cè)量范圍:1μm ~ 100mm
2.圖像分辨率:900萬(wàn)像素
3.光學(xué)平臺(tái):100mm * 120mm
4 背景光源:反射光
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