開放式孔構(gòu)薄膜PLGA納米纖維500nm厚200/500

靜電紡絲是基于高壓靜電場下導(dǎo)電流體產(chǎn)生高速噴射的原理發(fā)展而來，其基本過程是：聚合物溶液或熔體在幾千至幾萬伏的高壓靜電場下克服表面張力而產(chǎn)生帶電噴射流，溶液或熔體射流在噴射過程中干燥，并保持一定電荷量，終落在接收集上形成纖維。

開放式孔構(gòu)薄膜PLGA納米纖維500nm厚200/500

昊然生物實(shí)驗(yàn)室可以制備多種高分子纖維 PVA、PVB、PVP、PCL、PLA、PLGA、PSF、PS、PVDF、PAN 等，還可定制提供各種形貌的納米纖維膜、纖維管。

多孔薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PLGA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PCL納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PCL納米纖維200nm（厚度：100/200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLGA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PCL納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PCL納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

PS納米纖維網(wǎng)格濾片150nm（直徑3/8cm）（網(wǎng)格空隙：200um）

PS納米纖維網(wǎng)格濾片300nm（直徑3/8cm）（網(wǎng)格空隙：400um）

PS納米纖維薄膜網(wǎng)格濾片150nm（網(wǎng)格空隙：200um）

PS納米纖維薄膜網(wǎng)格濾片300nm（網(wǎng)格空隙：400um）

PS納米纖維內(nèi)嵌網(wǎng)格濾片150nm（孔數(shù)：6/12/24/48/96）（網(wǎng)格空隙：200um）

PLGA納米纖維網(wǎng)格膜片150nm（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：200um）

PLGA納米纖維網(wǎng)格膜片300nm（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：400um）

PLGA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片150nm（網(wǎng)格空隙：200um）

PLGA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片300nm（網(wǎng)格空隙：400um）

PLGA納米纖維內(nèi)嵌網(wǎng)格膜片150nm（孔數(shù)：6/12/24/48/96）（網(wǎng)格空隙：200um）

PLA納米纖維網(wǎng)格膜片150nm（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：200um）

PLA納米纖維網(wǎng)格膜片300nm（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：400um）

PLA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片150nm（網(wǎng)格空隙：200um）

PLA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片300nm（網(wǎng)格空隙：400um）

PLA納米纖維內(nèi)嵌網(wǎng)格膜片150nm（孔數(shù)：6/12/24/48/96）（網(wǎng)格空隙：200um）

PCL納米纖維網(wǎng)格膜片150nm（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：200um）

PCL納米纖維網(wǎng)格膜片300nm（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：400um）

PCL納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片150nm（網(wǎng)格空隙：200um）

PCL納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片300nm（網(wǎng)格空隙：400um）

PCL納米纖維內(nèi)嵌網(wǎng)格膜片150nm（孔數(shù)：6/12/24/48/96）（網(wǎng)格空隙：200um）

溫馨提示：以上產(chǎn)品僅用于科研，不能用于人體（BYZ 2021.7）