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半導體行業(yè)專用儀器

PALD

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PALD廠家

ALD

原子層沉積設備

其他品牌

價格區(qū)間	50萬-100萬	應用領域	綜合

桌面式原子層沉積系統(tǒng)ALD（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。

詳細介紹

    一、核心參數(shù)：

    價格區(qū)間：10萬-50萬

    產(chǎn)地類別：國產(chǎn)原子層沉積系統(tǒng)（ALD）

    襯底尺寸：4寸

    工藝溫度：RT-300℃

    前驅體數(shù)：4組液態(tài)或固態(tài)前驅體

    重量：40KG

    尺寸(WxHxD)：500*400*400mm

    均勻性：99.9%

    二、原子層沉積（Atomiclayerdeposition)是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。

    三、桌面式原子層沉積系統(tǒng)ALD產(chǎn)品描述：

    廈門韞茂科技公司研發(fā)的超小型桌式ALD原子層沉積設備是*材料研究的有力設備之一，它可以在4寸晶元（向下兼容）和微納米粉體上實現(xiàn)均勻可控的原子層沉積，具有廣泛的應用領域，設各配有獨立控制的300℃完整加熱反應腔室系統(tǒng)，保證工藝溫度均勻，該系統(tǒng)具有粉末樣品桶、晶元載盤，全自動溫控制、ALD前驅體源鋼瓶、自動溫度控制閥、工業(yè)級安全控制，以及現(xiàn)場RGA、QCM、臭氧發(fā)生器、手套箱等設計選項，是*能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應用的最佳研發(fā)工具

    四、廈門韞茂科技有限公司為您提供桌面式原子層沉積系統(tǒng)ALD的參數(shù)、價格、型號、原理等信息，產(chǎn)地為福建、品牌為韞茂，型號為MiniDesktopALD，價格為50萬RMB，更多相關信息可咨詢，公司客服電話7*24小時為您服務。

    五、售后服務：

    保修期：1年

    是否可延長保修期：否

    現(xiàn)場技術咨詢：有

    免費培訓：1.設備出廠前，提供至少2人一周的設備原廠培訓。2.設備在現(xiàn)場完成安裝調試

    免費儀器保養(yǎng)：有需要可安排

    保內(nèi)維修承諾：保修期內(nèi)（除天災和人為損害外）部件、元件費用、出差費用均由我司承擔

    報修承諾：質保期內(nèi)出現(xiàn)故障時我司將及時響應，并在8小時內(nèi)派技術人員到現(xiàn)場解決故障

    六、技術參數(shù)：