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隨著集成電路行業(yè)的不斷發(fā)展，半導(dǎo)體線寬越來(lái)越小，細(xì)微的污染都可能改變半導(dǎo)體的性質(zhì)，晶圓表面痕量的無(wú)機(jī)金屬離子和非金屬離子都會(huì)影響芯片良品率。晶圓制造過(guò)程中，光刻工藝約占整個(gè)集成電路制造成本的35%，與大規(guī)模集成電路光刻相關(guān)材料主要有溶劑、顯影劑、清洗劑、刻蝕劑和去膠劑，對(duì)其純度的要求已經(jīng)達(dá)到G4、G5的水平。

全面有效的

半導(dǎo)體雜質(zhì)控制方案

賽默飛離子色譜、電感耦合等離子體質(zhì)譜、液質(zhì)聯(lián)用儀和氣質(zhì)聯(lián)用儀，為半導(dǎo)體制造提供無(wú)機(jī)和有機(jī)雜質(zhì)控制的業(yè)界高水平分析技術(shù)，除了常規(guī)痕量無(wú)機(jī)陰離子、陽(yáng)離子和金屬離子的檢測(cè)方案外，賽家高分辨質(zhì)譜還能為生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的多種原因不明成分進(jìn)行定性、定量的高解析度質(zhì)量分析，為進(jìn)一步提升良率提供有效的全面分析解決方案！

賽默飛為半導(dǎo)體制造提供zui全面的分析檢測(cè)方案

賽家利器助力破解

半導(dǎo)體制造的分析難題

Dionex ICS-6000 HPIC離子色譜儀

賽默飛離子色譜“只加水"技術(shù)，無(wú)需手配任何試劑，不會(huì)產(chǎn)生污染，完quan滿足環(huán)境空氣和超純水中ppt級(jí)、高純?cè)噭┲衟pb級(jí)陰陽(yáng)離子的檢測(cè)需求。支持過(guò)程實(shí)時(shí)監(jiān)控分析。

iCAP TQs ICPMS

賽默飛iCAP TQs ICPMS具有獨(dú)te的變頻阻抗RF發(fā)生器設(shè)計(jì)，保證冷焰和熱焰的平穩(wěn)切換，可以獲得優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性，插入式進(jìn)樣系統(tǒng)和分體式炬管方便維護(hù)。優(yōu)異的冷等離子體和專li平面四極桿碰撞反應(yīng)池技術(shù)可消除多原子離子干擾，確保ICPMS測(cè)定獲得低的檢出限。

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Orbitrap Exploris 120質(zhì)譜儀

Orbitrap Exploris 120高分辨質(zhì)譜儀，幫助客戶從復(fù)雜的背景干擾中分離得到目標(biāo)物，對(duì)含量極低組分進(jìn)行定性定量檢測(cè)，還可對(duì)不同批次的特定產(chǎn)品，檢測(cè)產(chǎn)品組成的細(xì)微差異，對(duì)其進(jìn)行鑒定，找到差異產(chǎn)生的可能原因，滿足半導(dǎo)體測(cè)得到、測(cè)得準(zhǔn)、測(cè)得快的檢測(cè)需求。

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Orbitrap Exploris GC 240

Orbitrap Exploris GC高分辨氣質(zhì)聯(lián)用儀，具有質(zhì)量精度高、分析動(dòng)態(tài)范圍寬、高靈敏度的特點(diǎn)，其分辨率最高可達(dá)240,000，為半導(dǎo)體制程中的未知物定性分析提供了可深度挖掘的原始數(shù)據(jù)，為發(fā)現(xiàn)新化合物、尋找低濃度關(guān)鍵標(biāo)志物提供了可能。

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助力國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體騰飛

半導(dǎo)體制程化學(xué)品分析實(shí)例

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電子級(jí)異丙醇（IPA）中的雜質(zhì)分析

電子級(jí)異丙醇在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的硅晶片清洗、封裝測(cè)試等需求量很大，其純度對(duì)于產(chǎn)品的良率起到至關(guān)重要的作用。iCAP TQs ICPMS可靠穩(wěn)定的RF發(fā)生器通過(guò)等離子體加氧除碳，即便在冷等離子體條件下也能獲得穩(wěn)定的測(cè)定結(jié)果，并結(jié)合碰撞與反應(yīng)模式進(jìn)一步去除多原子離子的干擾，在一次測(cè)定中可穩(wěn)定切換各種測(cè)定模式，提高易用性和分析效率。

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賽默飛高分辨氣質(zhì)聯(lián)用儀，質(zhì)量精度高、分析動(dòng)態(tài)范圍寬，其高分辨、高靈敏度的特點(diǎn)為痕量未知物的分析提供了更好的途徑。對(duì)于目標(biāo)物定性，除了采用NIST譜庫(kù)以及高分辨檢索外，可以通過(guò)Orbitrap/MS的高質(zhì)量精確度碎片進(jìn)行初步的結(jié)構(gòu)推斷，包括元素組成分析，同位素輪廓分析等。此外，Orbitrap Exploris GC兼具定性分析和定量分析，具有超高的靈敏度和超寬的線性范圍，適合于不同含量等級(jí)的雜質(zhì)定性定量分析。

異丙醇含雜質(zhì)樣品及空白樣品TIC圖

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通過(guò)高分辨譜庫(kù)及精確質(zhì)量碎片推算結(jié)構(gòu)，雜質(zhì) 1 的最終確定為C?H??O?

氫氧化四甲基銨（TMAH）雜質(zhì)分析

四甲基氫氧化銨作為正膠顯影液被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)中，ICS-6000高壓離子色譜系統(tǒng)配備淋洗液發(fā)生器和自動(dòng)再生電解膜抑制中和系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)在線中和、濃縮富集、分析檢測(cè)技術(shù)于一體，其靈敏度完quan滿足且高于 Semi 標(biāo)準(zhǔn)，符合超純電子級(jí) TMAH 中陰離子雜質(zhì)的測(cè)定要求。

典型 TMAH 樣品加標(biāo) 5 ppb 常見(jiàn)分離譜圖

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三乙醇胺中的有機(jī)雜質(zhì)分析

在半導(dǎo)體相關(guān)材料的研發(fā)生產(chǎn)過(guò)程中，準(zhǔn)確地對(duì)雜質(zhì)進(jìn)行鑒定和監(jiān)測(cè)，可以有利于工藝方案的優(yōu)化及產(chǎn)品質(zhì)量的控制。Orbitrap Exploris 120質(zhì)譜儀可實(shí)現(xiàn)正負(fù)切換，一針進(jìn)樣即可獲得高精度的一級(jí)和二級(jí)質(zhì)譜數(shù)據(jù)，節(jié)約方法開(kāi)發(fā)的時(shí)間且能獲得更可靠的結(jié)果，實(shí)現(xiàn)對(duì)濕電子化學(xué)品中有機(jī)雜質(zhì)的解析。

樣品總離子流圖

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三乙醇胺的質(zhì)譜分析

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雜質(zhì)1 (C?H??O?N?)的質(zhì)譜分析

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半導(dǎo)體材料檢測(cè)應(yīng)用文集重磅上線！

賽默飛作為科學(xué)服務(wù)行業(yè)的領(lǐng)導(dǎo)zhe，憑借其離子色譜、電感耦合等離子體質(zhì)譜等技術(shù)實(shí)力，開(kāi)發(fā)出各類半導(dǎo)體材料中痕量無(wú)機(jī)陰離子、陽(yáng)離子和金屬離子的檢測(cè)方案，幫助半導(dǎo)體客戶實(shí)現(xiàn)良率的提升！此外，更有Orbitrap技術(shù)加持的材料解析技術(shù)、GDMS分析高純材料、元素分析金標(biāo)準(zhǔn)的HR-ICPMS技術(shù)等多種獨(dú)門武qi，為我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展提供全面的分析技術(shù)支持！

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